-
Jenoptik Expands Production Capacity with New Cleanrooms and added Testing Capabilities
Jenoptik, an industry leader in high performance optical systems for healthcare and advanced manufacturing industries, announces the addition of a new class 5 cleanroom, expanded production area and new equipment to further enhance our manufacturing and testing capabilities for the 70,875 square foot Jupiter, Florida facility. Jenoptik continues to drive innovation with the power of light by investing in advanced equipment to put our customers in the lead. In addition to new state-of-the-art equipment, the new class 5 cleanroom compliments several other existing cleanrooms and is equipped with advanced molecular filtration technology to support applications with demanding cleanliness requirements like EUV and vacuum applications. In a separate part of the…
-
Maßgeschneidertes F-Theta-Objektiv für die Batteriefertigung
Mit E-Mobilität erhöht sich die Nachfrage nach zuverlässiger strahlformender Optik für die Batterieherstellung. In Zusammenarbeit mit Technologieführern hat Jenoptik diese spezifischen Anforderungen in einem neuen F-Theta-Objektiv für 1064 Nanometer umgesetzt. Serienfertiger können auf ein maßgeschneidertes F-Theta-Objektiv zum Batterie-Folienschneiden mit High-power-Lasern zurückgreifen. Das neue F-Theta-Objektiv ist speziell auf die Applikation des Laser-Folienschneidens für Batterien mit 1064-Nanometer-Lasern angepasst und für die hochvolumige Serienfertigung mit Ultrakurzpulslasern geeignet. Jenoptik berücksichtigte bei der Entwicklung die Anforderungen des Marktes an kostenoptimierte Optiken, weshalb die Optik auf wesentliche Komponenten reduziert wurde. Das Objektiv erweitert die SilverlineTM-Objektivfamilie von Jenoptik für Laser-Anwendungen im Automobilzuliefermarkt. Durch Verwendung von absorptionsarmen Quarzglas und einer robusten optischen Beschichtung ist das F-Theta-Objektiv für Anwendungen…
-
Custom F-Theta Lens for Battery Production
Due to the growth of e-mobility, the demand for reliable beam-shaping optics for battery production increases continuously. In cooperation with technology leaders, Jenoptik has implemented these specific requirements in a new F-theta lens for 1064-nanometer applications. High-volume manufacturers can now make use of a custom F-theta lens for battery foil cutting with high-power lasers. The new F-theta lens is specially designed for the application of laser foil cutting for batteries with 1064-nanometer lasers and is suitable for high-volume serial production with ultrashort-pulse lasers. When developing this solution, Jenoptik took into account the requirements of this cost-optimized market which led to a compact and competitive lens. The lens joins Jenoptik’s SilverlineTM…
-
New F-theta Lens for Ultrashort Pulse Electronics Production
Achieving high-precision and reproducible results is a challenge when producing electronics with ultrashort laser pulses. With the new F-theta lens for 532 nanometers, Jenoptik is releasing another lens for the high-volume laser production of Printed Circuit Boards (PCBs). The new F-theta lens for 532-nanometer applications is the second high-power lens for use in the green wavelength range in Jenoptik’s SilverlineTM lens portfolio. The solid fused silica lens is especially designed for high-volume electronic production with ultrashort pulse lasers such as PCB depaneling. Enabled by its low-absorption fused silica and the high-quality coating, this lens withstands ultrashort pulse lasers and lasers with power outputs up to the kilowatt range. With a…
-
Neues F-Theta-Objektiv für die Ultrakurzpuls-Elektronikfertigung
Besondere Herausforderung bei der Elektronikfertigung mit ultrakurzen Laserimpulsen sind hochgenaue reproduzierbare Ergebnisse. Mit dem neuen F-Theta-Objektiv für 532 Nanometer bringt Jenoptik eine weitere Optik für die hochvolumige Laserfertigung von Printed Circuit Boards (PCB) auf den Markt. Das neue F-Theta-Objektiv für 532-Nanometer-Anwendungen ergänzt die SilverlineTM-Objektivreihe von Jenoptik um ein zweites High-Power-Objektiv für die Anwendung im grünen Wellenlängenbereich. Das Vollquarz-Objektiv ist speziell für die hochvolumige Serienfertigung mit Ultrakurzpulslasern in der Elektronikfertigung konzipiert, wie beispielsweise zum Depaneling von PCBs. Absorptionsarmes Quarzglas und eine hochwertige Vergütung erlauben die Anwendung mit Ultrakurzpulslasern bei Leistungen bis in den Kilowatt-Bereich. Mit einer Brennweite von 163 Millimetern und einer minimalen Spotgröße von 13 Mikrometern können Werkstücke in einem…
-
Jenoptik offers novel UFO ProbeTM Card for PIC Wafer Level Testing
As a partner for the semiconductor equipment industry, as well as test providers and users, Jenoptik is offering a novel optical solution for integration into electrical test cards. The ultra-fast opto-electronic probe card or UFO ProbeTM Card is used for functional testing on semiconductor chips with integrated optical functions, known as photonic integrated circuits (PICs), and can be adapted to customer requirements. Jenoptik’s new UFO ProbeTM technology targets the market for semiconductor equipment and processes for wafer-level testing in microelectronics. The technology is based on a concept for optical probing of photonic integrated circuits, which is insensitive to alignment tolerances in the wafer prober. As consequence, the opto-electronic probe card…
-
Jenoptik bietet neuartige UFO ProbeTM Card für PIC-Wafer-Level-Test
Als Partner der Halbleiter-Equipment-Industrie sowie von Test-Anbietern und -Anwendern bietet Jenoptik eine neuartige optische Lösung zur Integration in elektrische Prüfkarten an. Die Ultra-fast opto-electronic Probe Card oder auch UFO ProbeTM Card wird zum funktionalen Prüfen von Halbleiterchips mit integrierten optischen Funktionen, sogenannten photonic integrated circuits (PICs), verwendet und ist an Kundenforderungen anpassbar. Mit der neuen UFO ProbeTM-Technologie bedient Jenoptik den Markt für Halbleiterausrüstungen und Verfahren zum Wafer-Level-Test in der Mikroelektronik. Basis für die Technologie bildet ein Konzept zur optischen Abtastung von photonisch-integrierten Schaltkreisen, welches unempfindlich gegenüber Ausrichttoleranzen des Wafer-Probers funktioniert. Die opto-elektronische Prüfkarte kann dadurch mit handelsüblichen Wafer-Probern verwendet werden und sichert einen entsprechend hohen Durchsatz beim Testen von photonisch-integrierten…
-
Jenoptik investiert in eine hochmoderne Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage
Jenoptik investiert in eine neue Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage (E-Beam), die Mitte 2022 am Standort Dresden in Betrieb genommen wird. Die neue Anlage wird bei dem in Jena ansässigen E-Beam-Technologiespezialisten Vistec Electron Beam GmbH gebaut. Sie wird ein Kernelement bei der Entwicklung und Produktion anspruchsvollster Präzisionssensoren der nächsten Generation bilden, die für die Weiterentwicklung der DUV- und die Etablierung der hochgenauen EUV-Wafer-Belichtung in der Halbleiterfertigung unverzichtbar sind. Eine derartige Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im 10-Nanometer-Bereich (ungefähr 1/2.000stel eines Haares) auf bis zu 300mm großen Substraten „schreiben“. Jenoptik setzt dieses Verfahren unter anderem für die Herstellung von ultrapräzisen Mikrooptiken ein, die das funktionale Herzstück unserer Sensoren bilden. Hierbei wird die enorme Präzision…
-
Jenoptik invests in state-of-the-art E-Beam lithography tool
Jenoptik invests in a new electron-beam (E-Beam) lithography tool, which will go into operation at its Dresden, Germany site in mid-2022. The new E-Beam system will be built by the Jena-based E-Beam technology specialist Vistec Electron Beam GmbH. It will be a core element for the development and production of the most sophisticated next-generation precision sensors, which are essential for the further development of DUV and establishing high-precision EUV wafer exposure in semiconductor production processes. This E-Beam lithography tool writes structures to a precision in the 10 nanometer range (approx. 1/2,000th of a hair diameter) on up to 300mm sized substrates. Jenoptik uses this technology as a major enabler for…
-
Jenoptik reports improvements in revenue and earnings in third quarter in comparison with prior quarters
. – In the third quarter, order intake was at prior-year level with 177.0 million euros; buoyed by acquisitions, order backlog grew to 496.7 million euros after nine months – Revenue of 176.1 million euros in the third quarter was 6.9 percent up on prior quarters; cumulative figure of 505.0 million euros was 13.1 percent down on prior year – Profitability improved over the year; adjusted EBITDA margin was up to 18.0 percent in the third quarter, and came to 14.6 percent in first nine months – Adjusted free cash flow grew to 18.5 million euros – Outlook for 2020: including TRIOPTICS, revenue is expected to come in at between 755 and 775 million euros, with an adjusted EBITDA margin…
